用于掩模生产的两个光栅对齐
two raster alignment for mask production
我有两个分辨率相同 (10 m) 的栅格，但不同之处在于我从矢量文件创建了第一个栅格（使用 rasterize 函数），另一个栅格是我的分类结果.
我想将从矢量获得的光栅蒙版应用于分类结果。但是，当我检查两个栅格的范围时，我发现它们的范围略有不同（大约 3 m），即使它们具有相同的投影（当我检查两个栅格的 crs() 时，它们匹配当然）。两个网格的行数和列数也相同。
当我创建掩码时，我收到错误消息 compareRaster(x, mask) 错误：不同程度 。
您知道如何将两个光栅对齐到同一起点吗？
根据我的经验，这个问题可以通过使用栅格包的 resample() 函数将蒙版重新采样到您要蒙版的图像的空间属性来解决。
mask_new <- resample(mask, img, method="ngb")
小心使用不改变掩码文件中信息的插值方法。例如，在大多数情况下，最近邻应该比标准的“双线性”效果更好。
如果这不能解决问题，您还可以尝试使用栅格包的 rasterOptions() 函数来调整“tolerance”参数。
我有两个分辨率相同 (10 m) 的栅格，但不同之处在于我从矢量文件创建了第一个栅格（使用 rasterize 函数），另一个栅格是我的分类结果.
我想将从矢量获得的光栅蒙版应用于分类结果。但是，当我检查两个栅格的范围时，我发现它们的范围略有不同（大约 3 m），即使它们具有相同的投影（当我检查两个栅格的 crs() 时，它们匹配当然）。两个网格的行数和列数也相同。
当我创建掩码时，我收到错误消息 compareRaster(x, mask) 错误：不同程度 。
您知道如何将两个光栅对齐到同一起点吗？
根据我的经验，这个问题可以通过使用栅格包的 resample() 函数将蒙版重新采样到您要蒙版的图像的空间属性来解决。
mask_new <- resample(mask, img, method="ngb")
小心使用不改变掩码文件中信息的插值方法。例如，在大多数情况下，最近邻应该比标准的“双线性”效果更好。
如果这不能解决问题，您还可以尝试使用栅格包的 rasterOptions() 函数来调整“tolerance”参数。