没有早期 z 剔除的早期模板剔除

Question

我已经知道答案了，但我需要确定一下。

我分两次渲染一个场景。 在第一遍中，如果深度测试成功，我将模板位标记为 1 :

glEnable(GL_STENCIL_TEST);
glStencilMask(GL_TRUE);
glStencilOp(GL_KEEP, GL_KEEP, GL_REPLACE);
glStencilFunc(GL_ALWAYS, 1, GL_TRUE);

第二遍只写模板为 1 的地方:

glStencilFunc(GL_EQUAL, 1, GL_TRUE); // Pass test if stencil value is 1
glStencilMask(GL_FALSE); // Don't write anything to stencil buffer

事实上，这工作正常，但我预计性能会大幅提高。 第二遍中使用的着色器是特殊的：它使用 discard 和 gl_FragDepth 做作。 这使得 early-z 剔除变得不可能。幸运的是，我只对早期模板剔除感兴趣。

所以我的问题是：有没有一种方法可以利用早期模板剔除而无需早期 z 剔除？

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这个线程与这个one非常相关，但我确实需要在第二个着色器中使用discard和gl_FragDepth矫揉造作...

Answer 1

没有早期模板测试这样的东西。或者就此问题进行早期 Z/depth 测试。只有 early fragment tests，恰好包括模板和深度测试，但也包括其他操作。它们不能在早期零碎地执行；要么早要么晚。